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公司資訊
空調(diào)兩器真空氦檢漏儀器來電咨詢【科儀創(chuàng)新真空】
2021-06-18






氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置

科儀創(chuàng)新產(chǎn)品主要有:薄膜制備設(shè)備,真空冶金設(shè)備,檢漏設(shè)備,真空系統(tǒng)等非標(biāo)真空產(chǎn)品;系列分子泵,離子泵,鈦升華泵,深冷捕集泵等高真空獲得設(shè)備;系列干式渦旋泵,干式爪泵,干式螺桿泵等無油真空獲得設(shè)備;其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣,可以實(shí)現(xiàn)漏孔的準(zhǔn)確定位。超高真空環(huán)境模擬設(shè)備等高新技術(shù)產(chǎn)品。今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置有哪些,希望對(duì)您有所幫助!

1. 檢漏儀專用分子泵

2. 機(jī)械泵或者干泵

3. 定制檢漏儀專用電磁閥

4. 內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)漏口

5. 放大器

6. 采用質(zhì)譜專用模塊

以上是科儀創(chuàng)新為您一起分享的內(nèi)容,科儀創(chuàng)新專業(yè)生產(chǎn)氦檢漏,歡迎新老客戶蒞臨。





氦質(zhì)譜檢漏儀的原理

氦質(zhì)譜檢漏儀一般由質(zhì)譜管,真空系統(tǒng)和電子系統(tǒng)組成。其中質(zhì)譜管包括離子源,質(zhì)量分析器和離子檢測(cè)器; 真空系統(tǒng)一般由分子泵、機(jī)械泵、電磁閥和真空計(jì)組成。離子源的作用是將原子電離成帶電離子并聚焦成束,以一定能量注入質(zhì)分析器,

目前常用的電子轟擊型離子源有尼爾型和震蕩型兩種形式。質(zhì)分析器的作用起將各類離子按其質(zhì)荷比的不同實(shí)現(xiàn)分離。

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氦質(zhì)譜檢漏用氦氣的選擇

氦氣是一種無色、無味的隋性氣體。相對(duì)分子質(zhì)量為4.003,分子直徑為2.18×10-10m,分子的質(zhì)量為3.65×10-27kg,在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的密度為0.1769kg/m3,臨界溫度為5.25K,臨界壓力為2.26×105Pa,1atm壓力下的沸點(diǎn)為4.214K,熔點(diǎn)為0.9K,三相點(diǎn)溫度為2.186K,三相點(diǎn)壓力為51.1×10-2Pa,在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的熱導(dǎo)率為510.79J/(m·h·K),在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的定壓比熱為5233J/(kg·K),在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的動(dòng)力粘度系數(shù)為1.86×10-5Pa·s,1L液氦氣化為標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的氦氣體積為700L。氦質(zhì)譜檢漏儀逆擴(kuò)散原理逆擴(kuò)散方式檢漏允許被檢件內(nèi)壓強(qiáng)較高,氦質(zhì)譜檢漏儀可達(dá)1000Pa(一般常規(guī)檢漏儀為0。

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的瓶裝氦氣按純度高低分別為工業(yè)用氦、純氦、高純氦三種。

1、工業(yè)用氦:氦含量≥99%,露1點(diǎn)≤43℃.

2、純氦分三級(jí):優(yōu)等品氦含量≥99.995%;一等品氦含量≥99.993%;合格品氦含量≥99.99%。

3、高純氦分為三級(jí):優(yōu)等品氦含量≥99.9996%;一等品氦含量≥99.9993%;合格品氦含量≥99.999%。

氦氣在氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏中作為示蹤氣體使用,純度要求不高,一般選用工業(yè)用氦,即氦含量≥99%,露1點(diǎn)≤43℃。

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