




氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用拓展三
(1)電子行業(yè)
微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類傳感器、心臟起博器。
(2)真空行業(yè),儀器、儀表行業(yè)
管道、接頭、閥門、波紋管、各種真空泵、各類排氣機(jī)組、電鏡、質(zhì)譜儀、電子束離子速暴光機(jī)、激光軸分離器、高能加1速器、加1速器、輻照加1速器、鍍膜機(jī)、薄膜真空計(jì)。
(3)核工業(yè)
鈾分離裝置、存儲(chǔ)裝置、核發(fā)電裝置。
如需了解更多氦質(zhì)譜檢漏儀的相關(guān)信息,歡迎關(guān)注北京科儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限公司網(wǎng)站或撥打圖片上的電話詢!
氦質(zhì)譜檢漏儀的環(huán)境條件
氦質(zhì)譜檢漏儀是現(xiàn)在比較常用的儀器,今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家來(lái)說(shuō)一下,氦質(zhì)譜檢漏儀的使用環(huán)境條件有哪些,希望對(duì)您有所幫助!
校準(zhǔn)環(huán)境溫度為(23 ± 5) ℃ ,校準(zhǔn)過(guò)程中室溫變化不超過(guò)± 1℃ ,環(huán)境相對(duì)濕度不大于80% 。
校準(zhǔn)設(shè)備周圍應(yīng)無(wú)明顯的溫差、氣流和強(qiáng)電磁場(chǎng)等外部干擾。
環(huán)境溫度較好控制在23℃ 附近,因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)漏孔的出廠標(biāo)稱漏率對(duì)應(yīng)的環(huán)境溫度一般為23℃ 。
氦質(zhì)譜檢漏儀能為不同的需求提供不同的測(cè)量方法
氦質(zhì)譜檢漏儀原理的氦質(zhì)譜檢漏儀特點(diǎn):
1.檢測(cè)時(shí)間和周期非常短,可以達(dá)到5s以內(nèi);
2.檢測(cè)的介質(zhì)比較常用,僅需壓縮空氣即可;
3.不會(huì)受到主觀因素判斷的影響;
4.檢測(cè)的數(shù)據(jù)精準(zhǔn);
5.自動(dòng)生成數(shù)據(jù)保存,可追溯數(shù)據(jù)來(lái)源。
氦質(zhì)譜檢漏儀進(jìn)展的集中體現(xiàn)在如下幾個(gè)方面:
(1)便攜式:zui近各國(guó)推出的小型便攜式檢漏儀不僅靈敏度高,而且便于攜帶,給野外作業(yè)和高空作業(yè)提供了比較大的方便。
(2)高壓強(qiáng)下檢漏:檢漏口壓強(qiáng)可高達(dá)數(shù)百帕左右,對(duì)檢測(cè)大系統(tǒng)和有大漏的工件很有益。
(3)自動(dòng)化程度高:自動(dòng)校準(zhǔn)氦峰,自動(dòng)調(diào)節(jié)零點(diǎn),量程自動(dòng)轉(zhuǎn)換,自動(dòng)數(shù)據(jù)處理,可外接打印機(jī)。整機(jī)由微機(jī)控制,菜單的選擇功能,一個(gè)按鈕即可完成一次的全檢漏過(guò)程。
(4)全無(wú)油的干式檢漏:有些國(guó)家生產(chǎn)的檢漏儀,可采用干式泵,達(dá)到無(wú)油蒸氣的效果,為無(wú)油系統(tǒng)及芯片等半導(dǎo)體器件的檢漏,提供了有利條件。
(5)檢漏范圍寬:現(xiàn)今生產(chǎn)的四極檢漏儀,質(zhì)量范圍很寬,不僅可檢測(cè)氦氣,而且能檢測(cè)其它氣體。
氦質(zhì)譜檢漏儀能為不同的應(yīng)用提供廣泛的測(cè)試方法,含有渦輪分子泵、內(nèi)置機(jī)械泵、外置機(jī)械泵、光譜、儀管、閥組、檢漏儀電子元件和操作頁(yè)面,以及可選功能組件。氦質(zhì)譜檢漏儀在許多領(lǐng)域里得到廣泛的應(yīng)用,例如,在航空航天領(lǐng)域里宇宙飛船、航天飛機(jī)、火箭、飛機(jī)等這些都要用到真空檢漏技術(shù)。主要有離子源、分析器、收集放大器、冷陰極電離真空計(jì)組成,離子源是氣體電離,形成一束具有特定能量的離子,分析器是一個(gè)均勻的磁場(chǎng)空間,不同離子的質(zhì)荷比不同。
氦質(zhì)譜檢漏儀常用檢漏方法及標(biāo)準(zhǔn)
氦質(zhì)譜檢漏法是利用氦質(zhì)譜檢漏儀的氦分壓力測(cè)量原理,實(shí)現(xiàn)被檢件的氦泄漏量測(cè)量。當(dāng)被檢件密封面上存在漏孔時(shí),示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會(huì)從漏孔泄出,泄漏出來(lái)的氣體進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀后,由于氦質(zhì)譜檢漏儀的選擇性識(shí)別能力,僅給出氣體中的氦氣分壓力信號(hào)值。光無(wú)源器件有光纖連接器、光開關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。在獲得氦氣信號(hào)值的基礎(chǔ)上,通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)漏孔比對(duì)的方法就可以獲得漏孔對(duì)氦泄漏量。
根據(jù)檢漏過(guò)程中的示漏氣體存貯位置與被檢件的關(guān)系不同,可以將氦質(zhì)譜檢漏法分為真空法、正壓法、真空壓力法和背壓法,下面分別總結(jié)了這四種氦質(zhì)譜檢漏法的檢測(cè)原理、優(yōu)缺點(diǎn)及檢測(cè)的標(biāo)準(zhǔn)。
真空法氦質(zhì)譜檢漏
采用真空法檢漏時(shí),需要利用輔助真空泵或檢漏儀對(duì)被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣,當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí),氦氣就會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部,再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測(cè)量。按照施漏氣體方法的不同,又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。耐壓測(cè)試要求:一般兩器在執(zhí)行氦檢漏之前會(huì)充注一定壓力(一般不超過(guò)3。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣,可以實(shí)現(xiàn)漏孔的準(zhǔn)確定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來(lái),在罩內(nèi)充滿一定濃度的氦氣,可以實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測(cè)量。