




氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置
科儀創(chuàng)新產(chǎn)品主要有:薄膜制備設(shè)備,真空冶金設(shè)備,檢漏設(shè)備,真空系統(tǒng)等非標(biāo)真空產(chǎn)品;機(jī)械泵的工作方式不一樣,分為干泵檢漏儀和油泵檢漏儀,油泵工作會(huì)有油霧排出,污染工作環(huán)境,干泵沒(méi)有油霧排出對(duì)工作環(huán)境沒(méi)有影響。系列分子泵,離子泵,鈦升華泵,深冷捕集泵等高真空獲得設(shè)備;系列干式渦旋泵,干式爪泵,干式螺桿泵等無(wú)油真空獲得設(shè)備;超高真空環(huán)境模擬設(shè)備等高新技術(shù)產(chǎn)品。今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置有哪些,希望對(duì)您有所幫助!
1. 檢漏儀專(zhuān)用分子泵
2. 機(jī)械泵或者干泵
3. 定制檢漏儀專(zhuān)用電磁閥
4. 內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)漏口
5. 放大器
6. 采用質(zhì)譜專(zhuān)用模塊
以上是科儀創(chuàng)新為您一起分享的內(nèi)容,科儀創(chuàng)新專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)氦檢漏,歡迎新老客戶蒞臨。
氦氣檢漏儀
氦氣檢漏儀是氦質(zhì)譜檢漏儀((Helium Mass Spectrometer Leak Detector)的俗稱(chēng),運(yùn)用質(zhì)譜原理制成的儀器稱(chēng)為質(zhì)譜計(jì)或質(zhì)譜儀。氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏方式有那些氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏方式通常有兩種,一種為常規(guī)檢漏,另一種為逆擴(kuò)散檢漏。質(zhì)譜儀通過(guò)其核心部件質(zhì)譜室,使不同質(zhì)量的氣體變成離子并在某種場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)后,不同質(zhì)荷比的離子在場(chǎng)中彼此分開(kāi),而相同質(zhì)荷比的離子在場(chǎng)中匯聚在一起,如果在適當(dāng)位置安置接收1器接收所有這些離子,就會(huì)得到按照質(zhì)荷比大小依次分開(kāi)排列的質(zhì)譜圖,這就是質(zhì)譜。
用于檢漏的質(zhì)譜儀稱(chēng)為質(zhì)譜檢漏儀。測(cè)量氣體分壓力的所有質(zhì)譜計(jì),如四極質(zhì)譜計(jì)、射頻質(zhì)譜計(jì)、飛行時(shí)間質(zhì)譜計(jì)、回旋質(zhì)譜計(jì)等都可以用于檢漏。
專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)的以氦氣作示蹤氣體進(jìn)行檢漏的質(zhì)譜儀稱(chēng)為氦質(zhì)譜檢漏儀。這種儀器除靈敏度高外,還具有適應(yīng)范圍廣、定位定量準(zhǔn)確、無(wú)毒、安全、反應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn)。氦質(zhì)譜檢漏儀中用得較多的是90°和180°的磁偏轉(zhuǎn)型質(zhì)譜儀。
眾所周知,當(dāng)一個(gè)帶電質(zhì)點(diǎn)(正離子)以速度v進(jìn)入均勻磁場(chǎng)的分析器中,如果速度v的方向和磁場(chǎng)H的方向相垂直,則它的運(yùn)動(dòng)軌跡為圓,如圖1所示。當(dāng)磁場(chǎng)的磁通密度一定時(shí),不同質(zhì)荷比(m/e)的離子在磁場(chǎng)中都有相應(yīng)的運(yùn)輸半徑,也就是都有相應(yīng)的圓軌跡,這樣,不同質(zhì)荷比的帶電粒子在磁場(chǎng)分析器中運(yùn)動(dòng)后就會(huì)彼此分開(kāi)。氫氣有些性能(如質(zhì)量小、易通過(guò)漏孔)比氦還好,然而由于氫一方面有易1爆危險(xiǎn),另一方面在油擴(kuò)散泵中,由于油受熱裂解會(huì)產(chǎn)生大量的碳和氫,使氫本底極高且波動(dòng)大,以致靈敏度大大降低,所以很少采用。如果在離大運(yùn)動(dòng)的路徑中安置一塊檔板將其他離子檔掉,而在對(duì)應(yīng)的氦離子運(yùn)動(dòng)半徑位置的檔板上開(kāi)一狹縫,狹縫后安置離子接收極,這樣的只有氦離子才能通過(guò)狹縫而被接收極接收形成氦離子流,并經(jīng)放大器放大后由測(cè)量?jī)x表指示出來(lái)。檢漏時(shí),如果用氦氣噴吹漏孔,氦氣便通過(guò)漏孔進(jìn)入檢漏儀的質(zhì)譜室中,使檢漏儀的測(cè)量?jī)x表立即靈敏地反應(yīng)出來(lái),達(dá)到了檢漏的目的。
氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)
檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度,正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測(cè)時(shí),在漏點(diǎn)處噴射氦氣5~10s后,檢漏儀就發(fā)生響應(yīng),對(duì)于如此龐大的真空系統(tǒng),其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。
檢漏時(shí)噴槍在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍,該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間,即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間,當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。這樣,它們?cè)诜治銎髦械钠D(zhuǎn)半徑相差也大,容易分開(kāi),定標(biāo)找氦峰時(shí),不易受其他離子的干擾,因此就降低了對(duì)分析器制造精度的要求,易于加工。筆者根據(jù)實(shí)測(cè)經(jīng)驗(yàn),兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右,即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒(méi)有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。
清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同,但由于儀器零件對(duì)氦的吸附和脫附作用的影響,清除時(shí)間一般要更長(zhǎng)些。筆者測(cè)算,在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間約須1分鐘;在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間約須2分鐘;在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間在3分鐘左右。熱管需要檢漏原因:熱管內(nèi)部填充特殊液體用來(lái)增強(qiáng)熱傳導(dǎo)性能,如果熱管本身存在漏點(diǎn),首先會(huì)影響熱管的導(dǎo)熱性能。
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氦質(zhì)譜檢漏儀
今天和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏儀的相關(guān)知識(shí),希望對(duì)您有所幫助!
氦質(zhì)譜檢漏方法在真空檢漏技術(shù)領(lǐng)域里已經(jīng)得到廣泛的應(yīng)用,這種方法的優(yōu)點(diǎn)是:檢漏靈敏度高,可以檢漏到10-11Pam3/s 數(shù)量級(jí),儀器響應(yīng)快,氦分子在儀器高真空的環(huán)境中擴(kuò)散的速度很高;所以氦質(zhì)譜檢漏儀在許多領(lǐng)域里得到廣泛的應(yīng)用,例如,在航空航天領(lǐng)域里宇宙飛船、航天飛機(jī)、火箭、飛機(jī)等這些都要用到真空檢漏技術(shù)。另外,逆擴(kuò)散檢漏方式,實(shí)現(xiàn)了高壓強(qiáng)下檢漏,也為正壓吸槍檢漏提供了良好的條件。在一般工業(yè)領(lǐng)域里原子能、發(fā)電廠、配電站、合成氨的氮肥生產(chǎn)廠、汽車(chē)制造業(yè)、造船工業(yè)、制冷工業(yè)、冶金工業(yè)、輸氣管道、氣罐、油罐、鍋爐快餐食品包裝等都離不開(kāi)檢漏問(wèn)題,同樣在導(dǎo)1彈武1器裝備中也離不開(kāi)檢漏,導(dǎo)1彈彈體、燃料儲(chǔ)備罐、燃料運(yùn)輸管道、彈頭、特殊部件的密封性都要用到氦質(zhì)譜檢漏,本文主要真對(duì)氦質(zhì)譜檢漏原理及方法進(jìn)行綜述。