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2021-06-18






氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)

檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度,正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測(cè)時(shí),在漏點(diǎn)處噴射氦氣5~10s后,檢漏儀就發(fā)生響應(yīng),對(duì)于如此龐大的真空系統(tǒng),其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。

檢漏時(shí)噴槍在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍,該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間,即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間,當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。測(cè)試方法,使用氦質(zhì)譜檢漏儀的正壓法,先將滅火器內(nèi)沖入氦氣,然后放在密閉腔體內(nèi),腔體與氦質(zhì)譜檢漏儀相連,工作時(shí)先將腔體內(nèi)抽真空,到達(dá)一定的真空度后開(kāi)始檢漏,測(cè)試漏率在10-5mbar。筆者根據(jù)實(shí)測(cè)經(jīng)驗(yàn),兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右,即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒(méi)有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。

清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同,但由于儀器零件對(duì)氦的吸附和脫附作用的影響,清除時(shí)間一般要更長(zhǎng)些。氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇氦質(zhì)譜檢漏儀廠家的氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇一般應(yīng)從以下幾方面考慮:(1)無(wú)害,不能對(duì)人體或環(huán)境造成傷害。筆者測(cè)算,在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間約須1分鐘;在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間約須2分鐘;在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間在3分鐘左右。

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氦質(zhì)譜檢漏儀的原理

氦質(zhì)譜檢漏儀一般由質(zhì)譜管,真空系統(tǒng)和電子系統(tǒng)組成。其中質(zhì)譜管包括離子源,質(zhì)量分析器和離子檢測(cè)器; 真空系統(tǒng)一般由分子泵、機(jī)械泵、電磁閥和真空計(jì)組成。離子源的作用是將原子電離成帶電離子并聚焦成束,以一定能量注入質(zhì)分析器,

目前常用的電子轟擊型離子源有尼爾型和震蕩型兩種形式。質(zhì)分析器的作用起將各類離子按其質(zhì)荷比的不同實(shí)現(xiàn)分離。

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氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用拓展

氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用已從科學(xué)院、大專院校、實(shí)驗(yàn)室及少數(shù)科研機(jī)構(gòu)走向工礦企業(yè),甚至鄉(xiāng)鎮(zhèn)企業(yè)、個(gè)體企業(yè),可以說(shuō)應(yīng)用領(lǐng)域極其寬廣。

航空航天高科技工業(yè)

1)例如火箭發(fā)動(dòng)機(jī)及姿態(tài)發(fā)動(dòng)機(jī),過(guò)去是打壓刷肥皂水檢漏,現(xiàn)在重新改進(jìn)工藝用氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏,采用正壓吸槍與氦罩法結(jié)合,使檢漏靈敏度大大提高,從而保證了發(fā)動(dòng)機(jī)質(zhì)量。按照施漏氣體方法的不同,又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法?;鸺w的檢漏采用正壓吸槍、氦罩法、累集法等幾種方法的結(jié)合。由于檢漏技術(shù)的應(yīng)用,提高了檢漏靈敏度,彌補(bǔ)了吸入法檢漏時(shí)儀器靈敏度低的不足。

2)KM6空間環(huán)模裝置設(shè)備龐大,主真空室直徑12m、高22m,另外有輔助真空室和載人艙等。氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏方式有那些氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏方式通常有兩種,一種為常規(guī)檢漏,另一種為逆擴(kuò)散檢漏。容積3500m3,分系統(tǒng)多,結(jié)構(gòu)復(fù)雜,各種接口焊縫相加有幾千米長(zhǎng),采用氦質(zhì)譜檢漏儀負(fù)壓檢漏,每條焊縫由檢漏盒密封,配以鋪助抽氣系統(tǒng)將盒內(nèi)抽低真空后,充入一定壓力氦氣,關(guān)閉預(yù)抽閥,開(kāi)啟檢漏閥。由于盒內(nèi)氦濃度較高,相對(duì)檢漏儀又有一定壓力,因此有效提高了檢漏靈敏度。

3)航天工業(yè)中,衛(wèi)1星、各類閥門(mén)、電子元器件,傳感器等等都在廣泛應(yīng)用氦質(zhì)譜檢漏儀及其檢漏技術(shù)。

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