




氦質(zhì)譜檢漏儀(Helium Mass SpectrometerLeakDetector)為氣體工業(yè)名詞術(shù)語,用氦氣或者氫氣作示漏氣體,以氣體分析儀檢測(cè)氦氣而進(jìn)行檢漏的質(zhì)譜儀。氦氣的本底噪聲低,分子量及粘滯系數(shù)小,因而易通過漏孔并易擴(kuò)散;另外,氦系惰性氣體,不腐蝕設(shè)備,故常用氦作示漏氣體。主要有離子源、分析器、收集放大器、冷陰極電離真空計(jì)組成,離子源是氣體電離,形成一束具有特定能量的離子,分析器是一個(gè)均勻的磁場(chǎng)空間,不同離子的質(zhì)荷比不同。將這種氣體噴到接有氣體分析儀(調(diào)整到僅對(duì)氦氣反應(yīng)的工作狀態(tài))的被檢容器上,若容器有漏孔,則分析儀即有所反應(yīng),從而可知漏孔所在及漏氣量大小。
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氦質(zhì)譜檢漏儀的校準(zhǔn)方法
(1) 漏率校準(zhǔn)① 校準(zhǔn)系統(tǒng)的組成
校準(zhǔn)系統(tǒng)由標(biāo)準(zhǔn)漏孔、截止閥及需校準(zhǔn)的氦質(zhì)譜檢漏儀組成。
②示值誤差
通電預(yù)熱,待氦質(zhì)譜檢漏儀啟動(dòng)完成后,采用標(biāo)準(zhǔn)漏孔對(duì)氦質(zhì)譜檢漏儀進(jìn)行校準(zhǔn),將一經(jīng)過校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)漏孔接入氦質(zhì)譜檢漏儀系統(tǒng),運(yùn)行氦質(zhì)譜檢漏儀,待漏率示值穩(wěn)定后,可以讀出標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值,同一標(biāo)準(zhǔn)漏孔測(cè)量三次,計(jì)算氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值,從而得到標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率與氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值的示值誤差。正壓法的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)主要有QJ3089-1999《氦質(zhì)譜正壓檢漏方法》、QJ2862-1996《壓力容器焊縫氦質(zhì)譜吸槍罩盒檢漏試驗(yàn)方法》,主要應(yīng)用于大容積高壓密閉容器產(chǎn)品的檢漏,如高壓氦氣瓶、艙門檢漏儀等。結(jié)束后,將其他量級(jí)的標(biāo)準(zhǔn)漏孔依次按此方法接入氦質(zhì)譜檢漏儀系統(tǒng)進(jìn)行測(cè)試,得到氦質(zhì)譜檢漏儀在每一量級(jí)下漏率的示值誤差。
如果測(cè)試結(jié)果有較大編差,可以考慮氦質(zhì)譜檢漏儀的自校功能,待完成后,再用標(biāo)準(zhǔn)漏孔進(jìn)行測(cè)試。
③ 重復(fù)性
測(cè)量重復(fù)性是用實(shí)驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)偏差表征的,本校準(zhǔn)方法采用極差法來表征重復(fù)性。在示值誤差測(cè)量中,每一標(biāo)準(zhǔn)漏孔用氦質(zhì)譜檢漏儀重復(fù)測(cè)量三次,可用公式(2)計(jì)算氦質(zhì)譜檢漏儀在該漏率下的重復(fù)性。
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氦質(zhì)譜檢漏儀的原理
氦質(zhì)譜檢漏儀一般由質(zhì)譜管,真空系統(tǒng)和電子系統(tǒng)組成。其中質(zhì)譜管包括離子源,質(zhì)量分析器和離子檢測(cè)器; 真空系統(tǒng)一般由分子泵、機(jī)械泵、電磁閥和真空計(jì)組成。離子源的作用是將原子電離成帶電離子并聚焦成束,以一定能量注入質(zhì)分析器,
目前常用的電子轟擊型離子源有尼爾型和震蕩型兩種形式。質(zhì)分析器的作用起將各類離子按其質(zhì)荷比的不同實(shí)現(xiàn)分離。
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