很多情況下,我們需要密封住一定的空間,防止氣體或液體在壓力的作用下,流進或流出這個空間。如氦檢漏儀器,需要在真空條件下工作,要求在工作時,空氣不能漏進工作腔體,否則生產不能進行,或者產生次品,浪費人力物力。另外裝液體或氣體的容器(液壓氣瓶,氧氣瓶,空調冰箱中的雪種容器等等),要求在容器內外存在壓差的情況下,不能有氣體或液體漏出。如果有漏,后果嚴重,一般會造成有效物資的浪費,如有毒物資、腐蝕性氣體漏出,甚至會釀成事故。
這些對密封性有要求的產品或設備,在投入使用前,就要進行檢漏,使用中也要定期進行檢漏檢查。
氦檢漏儀器的較小可檢漏率(靈敏度),指的是在檢漏裝置在處于一個較佳的工作條件下(示漏氣體采用的是一個大氣壓的純氦),做“動態(tài)檢漏”時能檢出的較小漏孔的漏率。
1、較佳工作條件。
指被檢鍍膜設備部件的材料出氣很少,且沒有較大漏孔;檢漏裝置本身的參數(shù)調整到較佳工作狀態(tài)等。
2、動態(tài)檢漏。
指不用累積法進行檢漏,檢漏裝置本身的真空抽氣系統(tǒng)仍正常進行抽真空,裝置的反應時長小于3s,3s當中的抽氣系統(tǒng)的時間常數(shù)是小于一秒的;
3、較小可檢。
指其信號是本底噪聲的兩倍;
4、漏孔的漏率。
指干燥空氣(100kPa的壓力)經漏孔通向真空端(遠遠低于100kPa的壓力)的漏率。
對氦分壓變化有反應的氦質譜檢漏儀,為表征這種反應特性,較好給出檢漏裝置的較小可檢濃度,即濃度靈敏度。所謂檢漏裝置的“濃度靈敏度”,指處在工作壓力下(工作壓力一般為10?2Pa~10?3Pa)的質譜室,使用該裝置可檢示的大氣中的較小氦濃度的變化。而鍍膜設備的氦質譜檢漏儀中的“較小可檢濃度”則為信號與裝置噪聲比為一或二時,當中氦的濃度。